奧林巴斯 OLS5100 顯微鏡：材料分析利器
在材料分析的微觀世界里，奧林巴斯 OLS5100 激光共聚焦顯微鏡宛如一位精準(zhǔn)的探索者，為科研人員和工程師們開(kāi)啟了深入研究的大門。
OLS5100 專為失效分析和材料工程研究而設(shè)計(jì)。其采用反射型共聚焦激光掃描原理，配備 405nm 激光光源。短波長(zhǎng)的 405nm 激光相較于傳統(tǒng)的可見(jiàn)光（峰值 550nm），賦予了顯微鏡更優(yōu)秀的橫向分辨率，能夠清晰捕捉到樣品表面極細(xì)微的紋理和缺陷 。在光學(xué)系統(tǒng)方面，它擁有彩色成像和激光共聚焦兩套系統(tǒng)。彩色成像光學(xué)系統(tǒng)利用白光 LED 光源和 CMOS 圖像傳感器獲取信息，呈現(xiàn)出樣品的彩色外觀；激光共聚焦光學(xué)系統(tǒng)則借助 405nm 激光二極管光源和高靈敏度光電倍增管，獲得樣品的 3D 輪廓信息和高清圖像，僅接收通過(guò)圓形針孔聚焦的光線，有效消除模糊，實(shí)現(xiàn)比普通顯微鏡更高的圖像對(duì)比度 。
這款顯微鏡在性能上表現(xiàn)。它能夠輕松實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí) 3D 觀察與測(cè)量，可對(duì)納米范圍內(nèi)的臺(tái)階進(jìn)行細(xì)致觀察，精確測(cè)量亞微米級(jí)的高度差。在表面粗糙度測(cè)量方面，符合 ISO25178 標(biāo)準(zhǔn)，無(wú)論是線粗糙度還是面粗糙度都能精準(zhǔn)測(cè)定。而且，它采用非接觸、無(wú)損的測(cè)量方式，操作快捷，只需將樣品放置在載物臺(tái)上，即可開(kāi)啟測(cè)量之旅，避免了傳統(tǒng)接觸式測(cè)量對(duì)樣品可能造成的損壞 。
從參數(shù)來(lái)看，OLS5100 的綜合倍率在 54x ～ 17280x 之間，視場(chǎng)范圍為 16 µm ～ 5,120 µm。其測(cè)量原理基于先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)，在多種型號(hào)中，如 OLS5100-SAF、OLS5100-SMF 等，都展現(xiàn)出了穩(wěn)定而出色的性能。在材料分析中，它可用于金屬材料的微觀結(jié)構(gòu)觀察，分析其晶粒大小、晶界情況，幫助研究人員了解材料的性能與加工工藝之間的關(guān)系；在半導(dǎo)體材料研究里，能對(duì)芯片表面的微電路結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)量和分析，助力提升芯片制造的精度和質(zhì)量 。
在使用時(shí)，操作人員只需將樣品妥善放置在載物臺(tái)上，按下 “開(kāi)始" 按鈕，顯微鏡便會(huì)自動(dòng)進(jìn)行后續(xù)操作。智能掃描 II 功能讓新手和經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶都能快速上手，輕松獲取數(shù)據(jù)。PEAK 算法用于構(gòu)建 3D 數(shù)據(jù)，不僅可獲得從低倍率到高倍率的高精度數(shù)據(jù)，還能大幅縮短數(shù)據(jù)采集時(shí)間 。
總的來(lái)說(shuō)，奧林巴斯 OLS5100 激光共聚焦顯微鏡以其先進(jìn)的技術(shù)、出色的性能和便捷的操作，在材料分析領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用，為科研和生產(chǎn)提供了有力支持。
奧林巴斯 OLS5100 顯微鏡：材料分析利器
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